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xPro – L4镀膜系统

采用最新开发的第三代电弧蒸发技术和高能脉冲电弧蒸发技术的真空超硬镀膜系统(可选)

xPro – L4是最先进的工业化生产的大型真空镀膜系统,采用了最新开发的PDA* III-等离子扩散第三代电弧蒸发技术。专门设计用于在各种工具和模具以及磨蚀部件表面沉积高性能的耐磨、防腐、防磨蚀等冶金硬膜,如: AlCrN、AlCrSiN、AlTiSiN、AlCrN、AlTiN、CrN、TiC、N、TiN以及其它按客户要求开发的各类专用膜层。xPro – L4也具有“脉冲”高功率版本,即xPro – L4HHiParc**-高能脉冲电弧),该机型采用的技术和电源包能够加速沉积速率,缩短工艺周期和极大的提高靶材的利用率。

xPro – L4


xPro – L4的特征如下:


xPro – L4技术上的最显著特点:

PDA III*-技术

  • 最新开发的第三代电弧蒸发技术。“等离子-扩散-电弧-蒸发”技术沉积的膜层更光滑更致密

MACIII*第三代磁电弧控制装置

  • 显著地提高了靶材的利用率
  • 大大减少了微粒的形成,膜层更均匀致密

工艺时间缩短

  • 增强了加热功能
  • 采用了更高效的炉内清洗和刻蚀工艺

镀膜特性改善

  • 具有先进的界面构成
  • 特别洁净的工艺环境

改进了工件处理和装夹方式

  • 最安全的可移动装夹台车
  • 易于工件装卸,极高的装载能力

改进了软件设计

  • 使操作更轻松
  • 工艺程序高度重复运行
  • 适应性更强,可满足用户不同涂层需求
  • 带远程控制和诊断功能

改善了热处理系统

  • 加强了水冷却功能
  • 炉室均采用双层内壁结构

最安全最可靠的硬件构成

  • 品牌部件
  • 完美组合

xPro – L4镀膜系统尺寸,工艺参数和生产能力:

真空室尺寸 1000 × 1000 × 1.150 mm (长 × 宽 × 高)
涂层容积 710 × 720 mm (Ø × 高)
旋转台车数量 2台
装载平台 820 × 820 × 1.015 mm (长 × 宽 × 高)
抽空系统 2个双级旋片泵
1个罗茨泵
1个涡轮分子泵
弧源 4个大面积矩形电弧蒸发源
电源 4个电弧蒸发源电源210A
可选:400A脉冲电源 (HiParc**)
1个15kW直流电源
加热器 4个,加热功率:每个12kW
设备整体尺寸 3.650 × 1.615 × 2.220 mm (长 × 宽 × 高)
电力要求 120 kW, 400 V, 3 ph + N, 50/60 Hz

系统生产能力

等离子区容积 710 × 740 mm (Ø × 高)
铣刀 Ø 4 × 50 mm 3.670支
铣刀 Ø 12 × 75 mm 1.260支
刀片 ½″ x ½″ x 4 mm 7.700支
滚刀 Ø 80 × 80 mm 224个
滚刀 Ø 100 × 100 mm 108个

*PDA = Plasma-Diffused-Arc高能脉冲电弧
**HiParc = High Power Pulsed Arc等离子扩散电弧

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